以独创的高纯度化技术和精准的分析控制方法达到不纯物1ppb以下的高标准
优势:
对铜布线的影响较小。
对层间绝缘膜的损伤较小
有加强表面活性的效果
3价有机羧酸,性质稳定
Cu、Ni等金属不纯物可以控制在1ppb以下
用途:
CMP后段清洗剂
光刻胶剥离剂
蚀刻残留清洗剂
硅晶圆清洗剂
GaAs蚀刻剂
CMP研磨液
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